Available items(s) from this publisher

Advances in Low Temperature RF Plasmas / Makabe T.

Public ISBD Názov : Advances in Low Temperature RF Plasmas Original title : Basis for process design Typ materiálu: printed text Autor(i): Makabe T., Editor Editor: Netherlands : Elsevier Science B.V. Dátum publikovania: 2002 Strany: 341 s. ISBN (alebo iný kód): 978-0-444-51095-2 Jazyky : English (eng) Advances in Low Temperature RF Plasmas = Basis for process design [printed text] / Makabe T., Editor . - Netherlands (Amsterdam) : Elsevier Science B.V., 2002 . - 341 s. ISBN : 978-0-444-51095-2 Jazyky : English (eng)

Rezervácia

Zarezervovať exemplár

Exempláre

Barcode	Call number	Media type	Location	Section	Status
01481L	L	Kniha	Knižnica FÚ SAV	Monografie	Dostupné